Ichigo Inc. a créé une filiale à part entière, Ichigo Si Co. Ltd. (Ichigo Si), afin de mener des activités de recherche et développement (" R&D ") sur la production et l'application du dioxyde de silicium (SiO2), une silice d'origine végétale. Objectif de l'établissement : Dans le cadre de sa mission de contribution à la société par le biais d'activités commerciales, Ichigo a créé Ichigo Si pour mener des activités de R&D sur la production, l'application et la fourniture de dioxyde de silicium, qui a récemment été reconnu pour ses applications potentielles dans un large éventail de domaines, notamment le médical, l'électronique et l'électricité. La R&D d'Ichigo Si vise à contribuer à un avenir plus robuste pour le Japon et le monde entier en créant des entreprises capables de fournir de nouvelles ressources industrielles à un monde confronté à des ressources limitées. Date de création : 17 janvier 2022. Capital : 20 millions de JPY.